Additif photovoltaïque

* Fort pouvoir nettoyant : Offre une élimination puissante des taches, garantissant des résultats de gravure plus propres sur les plaquettes de silicium.
* Haute compatibilité : convient aux processus HJT et TopCon existants.
* Sûr et écologique : aucun risque de combustion ou d'explosion, non toxique et ne nécessite aucune mesure de protection particulière.

* La conformité SEMI garantit la propreté des plaquettes.
* Élimine les contaminants organiques/inorganiques, les ions métalliques<1ppb.
* Compatible avec les plaquettes mono/poly et les cellules HJT.
* La formule douce minimise les microfissures, augmentant ainsi l'efficacité.

* La rugosité à l'échelle nanométrique réduit la réflectivité en dessous de 10 %.
* Procédé stable avec une cohérence de lot élevée.
* Améliore l'adhérence du revêtement et la durabilité des cellules.
* La réaction à température ambiante réduit la consommation d’énergie de 30 %.
* La formule facile à rincer empêche la contamination.

* Crée des structures pyramidales uniformes, augmentant la capture de lumière de 5 %.
* Le taux de gravure contrôlé évite la sur/sous-gravure.
* La formule ultra-pure minimise la contamination sodium/fer.
* Compatible avec les cellules PERC, TOPcon et autres cellules à haut rendement.
* Sans phosphore ni azote, respectueux de l'environnement.

* Élimine les oxydes métalliques et les dommages de surface, améliorant ainsi la durée de vie des porteurs minoritaires.
* L'inhibiteur de corrosion réduit les vapeurs acides pour un fonctionnement plus sûr.
* Les matériaux de qualité électronique évitent la contamination.

* Élimine efficacement les huiles et les particules, améliorant ainsi l’absorption de la lumière.
* La formule peu corrosive protège l’intégrité de la surface de la plaquette.
* Sans métaux lourds, conforme RoHS, traitement facile des eaux usées.
* Compatible avec les plaquettes mono/polycristallines et divers équipements.
* La formule concentrée réduit les coûts d’utilisation.